- 维意真空热蒸发和手套箱一体机W-CT3
详细信息
品牌：维意真空 型号：W-CT3 加工定制：是 设备配置：- 手套箱
- 金属薄膜沉积与器件封装、检测用手套箱1台：
- 箱体尺寸：双工位手套箱，长度约1800 mm。箱体预留镀膜
安装器件封装与性能检测装置的空间。- 配置4只手套，可方便实现沉积室取送样品，以及器件封装
- 配置≥ 2套KF40标准接口。
- 手套箱技术指标与功能要求：
2.2箱体结构：具有可拆卸的安全玻璃视窗；配双层不锈钢物
架；带有安全阀；
2.3密封性：视窗与箱体之间无泄漏，手套口与手套和视窗之
间密封良好、耐用，无泄漏。
2.4泄露率：≤ 0.05vol%/h，泄漏率可检测；H2O < 1ppm，
O2< 1ppm。
2.5 净化效率：高净化效率，再生间隔时间长。
2.6 过渡仓：手套箱的箱体外侧各另设置一个过渡舱，过渡仓
尺寸≥ 150mm，长度为300 mm。
2.7传送及操作方式：过渡仓内设置可滑动托盘，样品可通过
移动托盘传送至手套箱内，托盘易于拆卸；手动操作。
2.8控制系统：用户友好的中英文操作界面的触屏。实现以下
控制功能：工作压力调节、箱内气体自动清洗、箱内气氛
自动报警、显示操作错误提示、可手动或自动检测泄漏率
等。
2.9 其他附件： （1）真空泵，气体纯化系统：气体纯化柱、
循环风机、有机溶剂吸附柱； （2）水、氧分析仪：分析
仪精度0.2 ppm或以上；分析仪输出可直接连接到触摸控制
屏，可对气体循环系统进行自动控制，实现自动循环；可设
定报警值； （3）箱内电源接口：配多孔电源插座。 （4）
手套箱总体功能要求：样品送入大（或小）过渡仓后，可在
高纯气氛或真空气氛条件下实现有机薄膜沉积、金属电极薄
膜沉积、器件封装及性能检测等功能。 （5）手套箱验收
标准：使用99.999%惰性气源，空箱运转，箱内水氧含量均
小于1ppm。- 真空热蒸发镀膜机系统
- 技术要求：
抽速：从大气抽至10-4Pa用时应≤ 30min；
1.2样品架： （1）可对样品实施360度电动旋转，转速可
在0 ~ 30转/min内连续调节。 （2）高度可调，蒸镀
距离在120-250mm范围内可调节。
1.3样品尺寸：样品基本尺寸为15×15mm/块，可分别承装如
下数量的样品： （1）3块×3块排列方式，可承装9块
/次。 （2）4块×4块排列方式，可承装16块/次。
1.4各密封接口真空漏率≤ 5×10-9Torr?L/s（用进口氦质谱
检漏仪检测）。
1.5 膜厚控制设备：膜厚探头2个，探测数据可同时显示在膜
厚仪上。
1.6 样品台（基片台）配备挡板，蒸发源配备可有效防止不同
材料交叉污染的遮挡装置。- 配置：
进样。
2.2镀膜机与手套箱的连接方式： 要求镀膜机位于手套箱外
（背后），蒸发室在手套箱内有方形门，可实现样品由手套
箱内直接传进蒸镀室。要求蒸镀室与箱体之间无泄漏，蒸
镀室口与手套箱接口密封良好、耐用，无泄漏。
2.3要求蒸发室在手套箱外另有一个门，手动开门设置，便于
清理和维修操作。
2.4 蒸发源4套：可蒸发金（Au）、 银（Ag）、铬（Cr）、钛（Ti）、
铝（Al）、铂（Pt）、氧化钼（MoO3）和LiF等材料。蒸发
源相关的其他要求如下： （1）蒸发电极可加载蒸发舟
或者钨篮，配备标准钼舟及钨蓝各10个。 （2）蒸发电
源1套，可转换供四套蒸发源使用，可在一次抽真空操作
后实现4种材料的顺次蒸镀，既可连续蒸镀4层不同材料。
2.5 真空获得系统：预抽机械泵1个，分子泵1个以及相应的
附件，分子泵水冷系统；分子泵与沉积室之间具备闭锁条
件。
2.6升降样品架。
2.7真空测量系统。
2.8膜厚测试系统。
2.9工作台：含真空计，蒸发源电源和相应控制系统，加热源
控制系统，膜厚测量系统，总电源控制区。
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维意真空热蒸发和手套箱一体机W-CT3
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- 产品型号：W-CT3
- 品 牌：维意真空
- 所 在 地：北京
- 更新日期：2024-02-22
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